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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

项目流程图片背景 该半导体设备制造厂中小型机构靠近华中地域,大部分研发集合电源电路电源芯片,日废气含氟焦化化工废水约800吨。可能地方坏保原则提高自己,多余进行解决基础设施无发够满足氟化物废气浓度值达不到5mg/L的新请求,中小型机构投资费用1700万元刚刚建立专业的含氟焦化化工废水进行解决系统化。 废水处理工艺材料及来自 废水处理核心由来于电子器件造成阶段中的刻蚀工艺技术和清洁工艺技术,核心废弃物物属于: 氟化合物氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 具有多量硅酸盐、聚磷酸盐 微量分析高价属如铜、镍等 加工方法过程 使用"预除理+无机化学滤渣+深入除理"整合鑫霖环保: 改善池:稳定水质量的水量,设置成pH百度在线评估 一层反馈池:添加氢空气氧化钙,保持pH至7-8,建成氟化钙沉积 6级乳浊液池:乳浊液转移氟化钙工业废水 二次元现象池:加药系统氯化钙和聚合反应氯化铝,进步清除稳定度氟正离子 一级发展池:重新发展提取 砂滤程序:除去悬停物 渗透性炭吸咐:清理有机会物和少量血本属 厌氧颗粒污水治理平台:板框压滤脱水怎么办,厌氧颗粒污水水分含量率降落到60%左右 从而结果 设备电脑运行稳定的后,留水水硬度: 氟阴阳离子含量:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属量均少于查出限 全部满意《电子器材化工水空气固体废弃物尾气排放量标准的》(GB39731-2020)规范,第一年缩短氟化物尾气排放量约180吨。

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