该晶圆加工厂坐落华北中北部，基本出产8寸大光电器件晶圆，日访问量焦化废水尾气排放出量约800吨。根据出产方式中选用大量氢佛酸通过晶圆蚀刻，出现焦化废河中氟化物溶液浓度达200-300mg/L，远超地区尾气排放出规范（10mg/L以內）。 废液基本成分及来源地 废液通常根据三种流程： 晶圆蚀刻工艺技术 ：含高氧化还原电位氟化物（HF）、氰化钠及多量血本属 无机化学自动化设备打磨抛光（CMP）废水处理方法 ：含納米级硅粒子、有机物络合剂 主设备除污电镀废水 ：含异丙醇、高锰酸盐指数等有机化学物 进行处理工艺技术流程图 应用"化学反应积累+混凝土积累+强度油烟净化器"三阶段治理 系统性： 4级加工 ：加药氯化钙和氢空气氧化钙，确立氟化钙放置，氟化物出掉率达85% 中级处里 ：增添PAC（缔合氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），除去溶液态环保问题物 3级加工 ：完成多物质吸咐器和活性氧炭吸咐，出液氟化物酸度稳定可靠在8mg/L左右 最为关键的机械包扩：pH自动化调理系统软件、斜管发展池、板框带式压滤机（工业废水脱水过滤）。 终究使用效果 项目流程行驶一年监控参数信息显示： 氟化物评均氧化还原电位：7.2mg/L（超过政府标准） COD删去率：92% 废水含水分率：≤65% 年借助氟化钙副软件约150吨，确保教育无害化借助